在大規模成像場(chǎng)景中，常規掃描電鏡成像速度和自動(dòng)化程度都無(wú)法滿(mǎn)足應用需求。例如，在芯片結構成像應用中，需要在幾周內完成數百平方毫米區域的連續拍攝；在人類(lèi)腦圖譜研究中，需要對百億級神經(jīng)元進(jìn)行高分辨成像。對于此類(lèi)場(chǎng)景，常規掃描電鏡效率嚴重不足，為解決客戶(hù)痛點(diǎn)，國儀量子于近日推出一款專(zhuān)為大規模成像而生的新產(chǎn)品——高速掃描電子顯微鏡HEM6000。

高速掃描電子顯微鏡HEM6000

高速自動(dòng)化
HEM6000

HEM6000是一款可實(shí)現跨尺度大規模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉系統、高壓樣品臺減速、動(dòng)態(tài)光軸、浸沒(méi)式電磁復合物鏡等技術(shù)，實(shí)現了高速圖像采集和成像，同時(shí)保證了納米級分辨率。面向應用場(chǎng)景的自動(dòng)化操作流程設計，使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達常規場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的5倍以上?？蓮V泛應用于半導體工業(yè)、生命科學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)科學(xué)等領(lǐng)域。

圖像采集速度：10 ns/pixel，2*100 M pixel/s

加速電壓：100 V~6 kV(減速模式)；6 kV~30 kV(非減速模式)

分辨率：1.3 nm@3 kV，SE；2.2 nm@1 kV，SE

視場(chǎng)大?。?/span>最大視場(chǎng)1*1 mm2，高分辨微畸變視場(chǎng)32*32 um2

樣品臺精度：重復定位精度：X ±0.6 um；Y ±0.3 um

產(chǎn)品優(yōu)勢
HEM6000

高速自動(dòng)化

全自動(dòng)上下樣流程和采圖作業(yè)，

綜合成像速度優(yōu)于常規場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的5倍

大場(chǎng)低畸變

跟隨掃描場(chǎng)動(dòng)態(tài)變化的光軸，實(shí)現了更低的場(chǎng)邊緣畸變

低壓高分辨

樣品臺減速技術(shù)，實(shí)現低落點(diǎn)電壓，同時(shí)保證高分辨率

應用案例
HEM6000