掃描電子顯微鏡,簡(jiǎn)稱(chēng)掃描電鏡，已成為功能強、用途廣的材料表征工具，已廣泛應用于材料，冶金，礦物，生物學(xué)等領(lǐng)域。

　　在SEM中，電子束以柵網(wǎng)模式掃描樣品。首先，電子槍在鏡筒頂部生成電子。當電子的熱能超過(guò)了源材料的功函數時(shí)，就會(huì )被釋放出來(lái)，然后它們加速向帶有正電荷的陽(yáng)*速移動(dòng)。整個(gè)電子鏡筒必須處于真空狀態(tài)。

　　SEM主要性能參數

　　<1> 分辨率

　　對微區成分分析而言，分辨率指能分析的最小區域；對成像而言，它是指能分辨兩點(diǎn)間的最小距離。

　　SEM分辨率主要受三方面影響：入射電子束束斑直徑、入射電子束在樣品中的擴展效應、成像方式及所用的調制信號。

　　二次電子像的分辨率約為5-10nm，背散射電子像的分辨率約為50-200nm。一般來(lái)說(shuō)SEM分辨率指的是二次電子像的分辨率。

　　<2>放大倍數

　　放大倍數可從十倍到幾十萬(wàn)倍連續可調。

　　放大倍數：M = L/I，其中L是顯像管尺寸，I是光柵掃描時(shí)相鄰兩點(diǎn)間距。M通過(guò)調節掃描線(xiàn)圈電流進(jìn)行，電流小則電子束偏轉角度小，放大倍數增大。放大倍率不是越大越好，要根據有效放大倍率和分析樣品的需要進(jìn)行選擇，與分辨率保持一定關(guān)系。

　　<3> 景深

　　景深指一個(gè)透鏡對高低不平的試樣各部位能同時(shí)聚焦成像的一個(gè)能力范圍。估算景深D = 2 r/a = 0.2/(aM) mm，a-電子束張角，M-放大倍數。SEM物鏡采用小孔視角、長(cháng)焦距，可獲得很大景深。

　　<4> 襯度

　　包括表面形貌襯度和原子序數襯度。表面形貌襯度由試樣表面的不平整性引起。原子序數襯度指掃描電子束入射試祥時(shí)產(chǎn)生的背散射電子、吸收電子、X射線(xiàn)，對微區內原子序數的差異相當敏感。原子序數越大，圖像越亮。二次電子受原子序數的影響較小。高分子中各組分之間的平均原子序數差別不大；所以只有—些特殊的高分子多相體系才能利用這種襯度成像。