掃描電子顯微鏡的制造是依據電子與物質(zhì)的相互作用。當一束高能的入射電子轟擊物質(zhì)表面時(shí)，被激發(fā)的區域將產(chǎn)生二次電子、俄歇電子、特征x射線(xiàn)和連續譜X射線(xiàn)、背散射電子、透射電子，以及在可見(jiàn)、紫外、紅外光區域產(chǎn)生的電磁輻射。同時(shí)，也可產(chǎn)生電子-空穴對、晶格振動(dòng) （聲子）、電子振蕩 （等離子體）。原則上講，利用電子和物質(zhì)的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學(xué)性質(zhì)的信息，如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場(chǎng)或磁場(chǎng)等。

　　掃描電子顯微鏡SEM 機構組成

　　掃描電子顯微鏡由三大部分組成：真空系統，電子束系統以及成像系統。

　　掃描電子顯微鏡SEM 基本參數

　　放大率：通過(guò)控制掃描區域的大小來(lái)控制放大率的。如果需要更高的放大率，只需要掃描更小的一塊面積就可以了。放大率由屏幕/照片面積除以?huà)呙杳娣e得到

　　場(chǎng)深：掃描電子顯微鏡SEM中，位于焦平面上下的一小層區域內的樣品點(diǎn)都可以得到良好的會(huì )焦而成象。這一小層的厚度稱(chēng)為場(chǎng)深，通常為幾納米厚，所以，SEM可以用于納米級樣品的三維成像。

　　工作距離：工作距離指從物鏡到樣品高點(diǎn)的垂直距離。

　　如果增加工作距離，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場(chǎng)深。

　　如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的分辨率。

　　通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間。